发布时间:2026-08-15阅读(0)
近日,康达新材接收调研表示,氧化铝靶材可应用于集成电路(IC)制造领域,用于沉积绝缘层和 介电层,隔离电路防止干扰,减少电流泄漏,提升产品的可靠性和耐 久性。目前控股子公司惟新科技的氧化铝靶材已完成了小批次验证, 根据客户订单需求供货。 CMP 抛光液是应用于半导体制造过程中的化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,简称 CMP)工艺的材料,目前公司氧化铈 CMP 抛光液正在开展产品的内部测试工作。
同时,控股子公司大连齐化 “年产 8 万吨电子级环氧树脂扩产项目”已于 2024 年取得环评批复,正有序推进。大连齐化 产品主要分为双酚 A 型环氧树脂、耐热型环氧树脂和特种环氧树脂三 大系列,包括双酚 A 型液体环氧树脂、双酚 A 型固体环氧树脂、溴化 环氧树脂、邻甲酚醛环氧树脂、苯酚酚醛环氧树脂、双酚 F 型环氧树 脂等多个品种。
来源:DT新材料
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