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光刻机的工作原理是要经过硅片表面清洗、烘干、旋涂光刻胶、干燥、对准曝光、去胶、清洗、转移等众多工序完成的。经过一次光刻的芯片还可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片,线路图的层数就越多,而且也需要更精密的曝光控制过程。光刻机一般是用在激光上,下面...
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